摘要：本文主要介绍了一种采用抛光垫夹持锗片进行抛光的新型抛光工艺。通过对比选用不同型号的抛光布，施加不同抛光压力及采用 不同抛光液配比进行工艺对比试验，最终确定锗片抛光工艺，并对采用该工艺抛光锗片进行测试分析。

关键词：抛光垫、抛光布、抛光压力、抛光液配比

正文：1 抛光布对比工艺试验 1.1实验条件 抛光设备为日本不二越SPM-19型单面抛光机，抛光压力为 180Kg，抛光液配比为水：二氧化硅溶液：Naclo=10:1:0.3。 1.2实验方案 分别采用SUBA400、SUBA600、SUBA800型抛光布进行实验， 对比抛光速率及抛光片表面状况。