• 城市建设理论研究(电子版)

双抛锗工艺研究

作者:陈亚楠 
作者单位:中国电子科技集团公司第四十六研究所 

摘要:本文主要介绍了一种采用抛光垫夹持锗片进行抛光的新型抛光工艺。通过对比选用不同型号的抛光布,施加不同抛光压力及采用 不同抛光液配比进行工艺对比试验,最终确定锗片抛光工艺,并对采用该工艺抛光锗片进行测试分析。

关键词:抛光垫、抛光布、抛光压力、抛光液配比

DOI:10.19569/j.cnki.cn119313/tu.0

来源:《城市建设理论研究(电子版)》 - 2017年19期

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《城市建设》 国际标准刊号:ISSN 1674-781X   国内统一刊号:CN 11-5897/F
《城市建设理论研究(电子版)》 国际标准刊号:ISSN 2095-2104   国内统一刊号:CN 11-9313/TU
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